Дата и время

Серия вакуумно-плазменных установок для нанесения ферромагнитных полупроводниковых пленок из плазмы ВЧ-разряда

Установки предназначены для разработки технологий получения нанокластерированных ферромагнитных материалов для приборов спиновой наноэлектроники, биосовместимых кальций-фосфатных, диэлектрических и других покрытий.

Slide 1
Внешний вид установки
Slide 2
Устройство рабочей камеры
Slide 3
Плазма ВЧ-разряда
Slide 3
Стойка системы управления
Slide 3
Полученые образцы


Основные технические характеристики установки ВЧ напыления


Параметр Величина
Объем РК, м3 0.2
Предельное остаточное давление рабочей камеры, Па 5.0x10-4
Напряжение питания магнетронов, В 1000
Максимальная мощность магнетронного разряда, кВт 1-2
Ускоряющее напряжение ионного источника очистки, кВ 2
Ток ионного пучка, А 0.1-0,5
Материал катода Магнитные металлы и сплавы, керамика, композиты
Число каналов подачи рабочего газа, шт. 3
Напряжение питающей сети, 3 фазы, 50,60 Гц, В 380 x 220
Максимальная потребляемая мощность установки, кВт 15
Расход охлаждающей воды, м3/час 0.5
Расход рабочего газа, л/час 1-3
Габаритные размеры, в плане:
Вакуумная камера (с опорным основанием), мм
Шкаф управления, мм

 

1650 x 800
600 x 800

Высота:
Вакуумная камера, ммШкаф управления, мм

 

1650
1600

Масса установки, кг 450
Установочная площадь с зоной обслуживания, м2 12
Установки успешно введены в эксплуатацию в 2005, 2007, 2009, 2011гг.