Дата и время

Система для ионно-пучковой финишной обработки ТВЭЛов водо-водяных реакторов


Система для ионно-пучковой финишной обработки твэлов водо-водяных реакторов предназначена для очистки и полировки поверхности ТВЭЛов длиной до 500 мм ионным пучком.


Slide 1
Внешний вид установки
Slide 1
Внешний вид установки после модернизации
Slide 2
Устройство рабочей камеры
Slide 3
Стойка управления
Slide 3
Система управления


Основные технические характеристики установки


Параметр Величина
Предельное остаточное давление рабочей камеры, Па 1×10-4
Скорость вращения турель-кассеты, об/мин. 1,8
Скорость вращения тепловыделяющего элемента, об/мин. 0…15
Напряжение питания магнетронов, В 600
Максимальный ток магнетронного разряда, А 9
Мощность магнетрона, кВт 5
Размер мишени (катода) планарных магнетронов, мм 100×600
Ускоряющее напряжение источника очистки, кВ 3,5
Ток ионного пучка, А 0,9
Число каналов подачи рабочего газа, шт. 3
Напряжение питающей сети, 3 фазы, 50,60 Гц, В 380
Максимальная потребляемая мощность установки, кВт 15
Расход охлаждающей воды, м3/час 1,5
Расход рабочего газа, л/час, не более 9
Габаритные размеры, в плане:
Вакуумная камера с насосами, мм
Шкаф управления, мм

1700 x 1000
800 x 600
Высота:
Вакуумная камера, мм
Шкаф управления, мм

2500
2200
Масса установки, кг 650
Установка введена в эксплуатацию в 2012г.